光掩模版可按照組成與產品進行分類。光掩膜版主要由基板與遮光膜兩部分組成，其中基板可分為透明樹脂基板和透明玻璃基板，透明樹脂基板易于大型化，但是易變形，相較而言玻璃基板更為常用，按照玻璃材質可細分為合成石英、硼硅玻璃和蘇打玻璃三類；遮光膜材料主要是乳膠遮光膜與硬質遮光膜兩大類，硬質遮光膜可進一步細分為鉻、硅、硅化鉬、氧化鐵四類，其中鉻質材料具有涂覆均一性好，刻蝕精度高，且無毒無污染的優點，應用最為廣泛。按照用途可將光掩膜版分為鉻版、凸版、干版和液體凸版四類，其中，鉻版主要由鉻質遮光膜與石英基板組成，由于其精度高、耐用性好，廣泛應用于在微電子制造領域。
光的制造流程包括材料準備、CAD 圖形設計，光刻、顯影、蝕刻和脫模。制造光掩膜版的材料主要是合成石英基板，材料準備是指對其進行拋光、清洗，并在表面覆蓋鉻膜；光刻是將處理好的圖形數據文件傳遞給激光光繪機，對勻膠鉻版進行非接觸式曝光；顯影是將曝光處理的光刻膠層去除，顯露鉻層；蝕刻是把曝露處鉻層腐蝕去除；脫膜即將剩下的光刻膠去除。
光掩膜版的原材料主要為基板（合成石英、硼硅玻璃和蘇打玻璃等），下游應用包括平板顯示、集成電路、觸摸屏、電路板等。光掩膜版行業的產業鏈分為上游的圖形設計、光掩膜設備和材料行業，中游的光掩膜版制造和下游的微電子運用。光掩膜版制造商分為兩種類型，將光掩膜版賣給其他公司的獨立商業制造商，如清溢光電等；自產自用的專屬制造商，如臺積電等。目前全球范圍內光掩膜版主要以專業生產商為主，而光掩膜版生產商主要采用采購光掩膜版基材的方式，少數廠商具備上游基材生產能力。
