公司的競爭優勢、國內外競爭格局。目前，國際上共有5 家企業在生產單晶片清洗設備，分別是Screen Semiconductor Solutions，Tokyo Electron,Lam Research, SEMES 和ACM。其中，Screen 占據了行業的半壁江山。據Gartner 統計，2016 年Screen的市占率為53.7%，而ACM 僅占0.8%。
空間交變相移兆聲波清洗（SAPS）。隨著技術節點逐漸從45nm 縮小到10nm，傳統的噴射清洗技術已經難以清除掉微小的顆粒，隨之取代的是兆聲波清洗技術，其利用兆聲波產生的氣穴將顆粒移除。但兆聲波的傳遞并不均勻，顆粒去除率低，而ACM 開發的SAPS 技術可利用微小的移動解決兆聲波傳遞的均勻性。
時序能激氣泡震蕩兆聲波清洗（TEBO）。存儲芯片從2D 升級到48 層3D 使芯片的高深寬比逐漸提高，邏輯芯片進入finFET 結構，有效的清潔需要使用較高功率級別的兆聲波，這樣會使原本脆弱的晶圓片造成嚴重圖案損傷。而TEBO 技術可以穩定氣泡的震蕩，達到低甚至零損傷。
半導體清洗設備國產化。在8大制程設備中，均有國產設備企業布局，如介質刻蝕設備由中微半導體承擔國產化重任。單一制程設備范圍內，很少有國產設備企業存在相互競爭的情況，國產品牌各自主攻某一項或兩三項核心制程設備的國產化。在清洗設備方面，僅有盛美半導體、北方華創有布局，且兩者之間的產品存在較大的差異。
SCREEN的借鑒意義。Screen是全球最大的半導體清洗設備供應商，在全球半導體設備企業排名第六，在半導體清洗設備中的市占率超過50%。從Screen2018年財年的收入結構看，來自半導體的設備占比達到67%，面板設備占比13%。從地區分布看，亞太地區（包括中國臺灣、韓國、中國大陸等）占比60%，其次是日本和北美地區，分別占比18%和11%。
