濕電子化學品種類繁多，應用廣泛，純度要求高。濕電子化學品種類繁多，應用廣泛。濕電子化學品是微電子、光電子濕法工藝制程中使用的各種液體化工材料，主要包括通用的超凈高純試劑和一系列功能性化學品，具有技術門檻高、資金投入大、產品更新換代快等特點。濕電子化學品的一般要求是超凈和高純，要求化學試劑中控制顆粒的粒徑在0.5μm以下，雜質含量低于ppm級（10-6為ppm，10-9為ppb，10-12為ppt），是化學試劑中對顆粒控制、雜質含量要求最高的試劑。濕電子化學品廣泛的應用在半導體、平板顯示、太陽能電池等多個領域。
濕電子化學品的分類。濕電子化學品按其用途可分為通用濕電子化學品和功能濕電子化學品。通用濕電子化學品主要用于液晶顯示，太陽能電池等領域，主要為各種酸堿與有機溶劑。功能濕電子化學品是通過復配手段達到預期化學性質的特殊化學品，主要包括顯影液，刻蝕液，剝離液，緩沖刻蝕液等。在集成電路和分立器件的制作方面，依照超凈高純試劑的用途，可以將其劃分為濕法清洗劑，光刻膠配套試劑，濕法蝕刻劑和摻雜用試劑等。功能性濕電子化學品附加值高，未來應用市場大。
濕電子化學品的質量標準。1975年，美國的國際半導體設備與材料協會(Semi conductor Equipment and Materials International，SEMI)首先為微電子工業配套的超凈高純化學品制定了國際統一標準——SEMI標準。1978年，德國的伊默克公司也制定了MOS標準。兩種標準對超凈高純化學品中金屬雜質和(塵埃)微粒的要求各有側重，分別適用于不同級別IC的制作要求。其中，SEMI標準更早取得世界范圍內的普遍認可。
