光刻膠：泛半導體產業核心材料，半導體材料皇冠上的明珠。光刻膠又名“光致抗蝕劑”，光刻膠具有光化學敏感性，通過利用光化學反應，并經光刻工藝將所需要的微細圖形從掩模版轉移到待加工基片上。光刻膠被廣泛應用于光電信息產業的微細圖形線路的加工制作，是微細加工技術的關鍵材料，可應用于 PCB、LCD 與集成電路等下游領域。
光刻膠廣泛應用于 IC、面板顯示和 PCB 等下游泛半導體領域。光刻膠自 1959 年被發明以來，就成為半導體工業最核心的工藝材料；隨后光刻膠被改進運用到印制電路板的制造工藝，成為 PCB 生產的重要材料；二十世紀九十年代，光刻膠又被運用到 LCD 器件的加工制作，對 LCD 面板的大尺寸化、高精細化 、彩色化起到了重要的推動作用。光刻膠經過幾十年不斷的發展和進步，應用領域不斷擴大，衍生出非常多的種類。
在 LCD 面板行業：應用于顯示面板行業的光刻膠可以按用途再細分為 TFT 用光刻膠、觸摸屏用光刻膠和濾光片用光刻膠。（1）TFT 用光刻膠：用于在玻璃基板上制造場效應管（FET）。每一個 TFT 都用來驅動一個子像素下的液晶，因此需要很高的精度。（2）觸摸屏用光刻膠：用于在玻璃基板上趁機 ITO，從而制作圖形化的觸摸電極。（3）濾光片用光刻膠：用于制作彩色濾光片，又分為彩色光刻膠和黑色光刻膠。
