掩膜版的功能類似于傳統照相機的“底片”，其工作原理如下：根據客戶所需要的圖形，掩膜版廠商通過光刻制版工藝，將微米級和納米級的精細圖案刻制于掩膜版基板上，掩膜版的原材料掩膜版基板是制作微細光掩膜圖形的感光空白板，再將不需要的金屬層和膠層洗去，即得到掩膜版產成品。掩膜版對下游行業生產線的作用主要體現為利用掩膜版上已設計好的圖案，通過透光與非透光的方式進行圖像（路圖形）復制，從而實現批量生產。
光掩膜上游主要包括圖形設計、光掩膜設備及材料行業，主要供應廠商包括日本東曹，日本信越化學、日本尼康和菲利華等；中游為掩膜版制造行業，主要企業包括日本HOYA，日本 DNP，韓國 LG-IT、日本 SKE 和清溢光電；下游主要包括 IC 制造、IC 封裝、平面顯示和印制線路板等行業，廣泛應用于消費電子、家電、汽車等電子產品領域，主要客戶為半導體廠商英特爾、三星、臺積電等以及顯示屏廠商京東方、華星光電等。
掩膜版主要由基板和遮光膜兩個部分組成。基板分為樹脂基板和玻璃基板，玻璃基板主要包括石英基板和蘇打基板，根據遮光膜種類的不同，可以分為硬質遮光膜和乳膠。光掩膜按用途分類可分為四種，分別為鉻版(chrome)、干版、液體凸版和菲林。其中，鉻版精度最高，耐用性更好，廣泛應用于平板顯示、IC、印刷線路板和精細電子元器件行業；干版、液體凸版和菲林主要用于中低精度 LCD 行業、PCB 及 IC 載板等行業。
