前驅體生產工藝可分為間歇法和連續法兩種。間歇法在反應過程中，反應漿料通過溢流管不斷溢出到濃縮機進行濃縮，清液濾掉進行廢水處理，物料則返回反應釜讓晶體繼續長大，直至反應釜內前驅體粒徑達到要求，然后轉去陳化釜靜置一段時間，以完善前驅體晶體結構形貌，然后進入后道過濾、洗滌、干燥、包裝流程。連續法則在反應過程中，同時進料和出料，反應漿料通過溢流管不斷溢出到陳化釜，經過陳化靜置，然后進入后道過濾、洗滌、干燥、包裝流程。
間歇法生產前驅體粒徑分布極窄，連續法生產產能更高。間歇法生產物料在反應釜內停留時間較為均一，生產出前驅體粒徑分布更窄，適用于生產高端型如高鎳、單晶型前驅體產品；但存在生產連續性差，批次穩定性差缺點。連續法生產產率更高，相同容積反應釜連續法生產產能約為間歇法產能兩倍，并且批次穩定性好；但由于一邊進料一邊出料，物料在反應釜內停留時間分布較寬，生產出的前驅體粒徑分布也更寬，尤其存在一些粒徑過小顆粒，在正極燒結過程中會導致過燒，從而影響正極品質，目前主要用于生產中低端前驅體產品。
沉淀過程中的 pH 直接影響晶體顆粒的成核、生長。不同 pH 值條件下得到不同形貌的前驅體顆粒的原因可以解釋為沉淀 pH 條件對晶體成核速度和生長速度的影響。當 pH 值偏低時，由于溶液中過飽和度較小，前驅體顆粒生長速度大于其成核速度，易于得到形貌較好的顆粒。而在高 pH 值條件下，溶液體系中過飽和度較大，晶核的形成速率很快，而前驅體顆粒的生長速度較慢，因而形成顆粒較小的微晶結構。
