深耕光刻領域，市場份額絕對領先。阿斯麥（ASML.O）是全球最大的半導體光刻機設備及服務提供商，在細分領域具備壟斷地位。總部位于荷蘭費爾德霍芬（Veldhoven），是飛利浦與ASMI 于1984 年合資創立，原稱Advanced Semiconductor Material LithographyHolding N.V.。1995 年公司在 NASDAQ 與阿姆斯特丹交易所上市，2001 年更名為ASML。公司技術實力在光刻設備領域領先，45nm 以下的高端光刻機的市場中，占據80%以上的份額，尤其在極紫外光（EUV）領域，目前處于壟斷地位。在2017 年，公司營收達67 億歐元，凈利潤15 億歐元，員工總數約有16,500 人，其中研發超過6,000 人。
光刻設備是半導體關鍵制程，公司推動了行業技術演進。光刻（lithography）設備是一種投影曝光系統，由紫外光源、光學鏡片、對準系統等部件組裝而成。在半導體制作過程中，光刻設備會投射光束，穿過印著圖案的掩模及光學鏡片，將線路圖曝光在帶有光感涂層的硅晶圓上；通過蝕刻曝光或未受曝光的部份來形成溝槽，然后再進行沉積、蝕刻、摻雜，架構出不同材質的線路；此制程被一再重復，就能將數以十億計的MOSFET 或其他晶體管，建構在硅晶圓上，形成一般所稱的集成電路。
雙工作臺與浸沒式設備是發展轉折點。公司在1986 時推出第一步進式（stepper）光刻機，提高掩模的使用效率與光刻精度，將半導體工藝制程向上提升一個臺階；在2001 年, 公司推出采用雙工作臺的設備，能在硅晶圓在一個工作臺進行光刻曝光時，同時將另一片晶圓在第二個工作臺進行測量對位，大幅提高工作效率與對位精度，此一設計受到客戶極大青睞，鞏固了公司的市場地位；而在2007 年，阿斯麥配合臺積電的技術方向，推出了193nm 光源的浸沒式系統，在光學鏡頭與硅晶圓片導入液體作為介質，在原有光源與鏡頭的條件下，能顯著提升蝕刻精度，成為目前高端光刻的主流技術方案，一舉壟斷市場。尼康與佳能原本主推157nm 光源的干式光刻，但此一路線為市場所放棄，也成為這兩家公司邁入衰退的重要原因。
專注關鍵環節，研發投入與專業并購形成正向循環。阿斯麥的研發人員占比將近4 成，并累計1 萬個以上專利。相較于尼康及佳能內部研發多數部件與技術的模式，阿斯麥推行部件外包與技術合作開發策略，專注于核心技術與客戶需求，具有較高的方案彈性與效率；公司先后對光刻的細分領域龍頭進行投資，其中包括在2000 年收購 Silicon Valley Group，擴展了在美國的研發團隊與生產基地；在2007 年收購了美國的Brion，強化了專業光刻檢測與解決方案能力；在2013 年完成對紫外光源龍頭Cymer 的收購，以及在2016 年取得光學鏡片龍頭德國蔡司24.9%的股份，后兩起對技術供應商的投資，加大了公司在極紫外光領域的領先優勢。
近年營收穩健增長，2017 年進入高周期。在2012-16 年，由于半導體行業升級減速，設備行業出現低增長甚至衰退。公司營收增速放緩，但仍維持在10%左右的增長率。2016 年下半后，14nm 與10nm 制程陸續進入量產，公司浸沒式的DUV 光刻設備需求持續強勁；同時公司推出的EUV 光刻系統，是7nm以下制程的關鍵設備，成為一線晶圓廠的資本支出的重點。在2016 年，公司營收達到新高的67 億歐元（+8.1%），凈利潤15 億歐元（+5.5%）；2017 年Q3 銷售金額24 億歐元，同比增長34.8%，全年營收增長率有望突破25%，較2015 和2016 年不到10%的增速水平有明顯進步。
