微導納米深耕薄膜沉積設備領域，以 ALD 技術為核心不斷實現技術突破。1）初步發展階段：2015 年公司成立，2017 年研發出光伏領域 ALD 第一代量產機型 KF4000，并陸續與下游龍頭企業簽訂樣機試用協議；2）加速發展階段：2018 年，光伏 ALD 設備 KF6000 開始在下游量產爬坡，公司知名度提升。2019 年 ALD 設備產能突破 10000 片/小時，豐富產品矩陣，半導體領域樣機搭建完成；3）戰略升級發展階段：2020 年至今，公司成功研制PEALD+PECVD 機型，高端光伏裝備成功獲得隆基、愛旭、晶科等多家重要廠商訂單，并在通威、尚德等 TOPCon 電池產線上開展應用；半導體領域，公司首套用于 300mm 晶圓的 High-k 柵氧層薄膜沉積的 ALD 設備實現銷售，取得國產半導體 ALD 設備在 28nm 集成電路制造關鍵工藝中的突破。
光伏領域：率先將 ALD 應用于光伏電池生產的薄膜沉積環節，獲得客戶認可。公司通過持續的技術開發和工藝改良，突破了 ALD 技術原有的產能低、成本高等多項產業化運用瓶頸，大幅提升 ALD 設備單位產能。公司產品包括夸父系列 ALD 系統、夸父系列管式PECVD 系統和祝融系列管式 PEALD 系統，已覆蓋通威、隆基、晶澳、阿特斯、天合光能等多家電池片廠商。無錫尚德 2GW TOPCon 電池整線使用公司設備，量產效率高達 25%，ALD 增效作用明顯。
半導體領域：國內少數薄膜沉積企業，突破關鍵工藝。公司近年發力半導體領域，產品包括鳳凰系列、麒麟系列原子層沉積鍍膜系統和龍系列真空傳輸系統，獲得國內多家知名半導體公司的商業訂單。公司研制出用于 300mm（12 英寸）晶圓的 High-k 柵氧層薄膜沉積的 ALD 設備，已實現銷售并獲得重復訂單，取得 28nm 節點中國產 ALD 設備從 0到 1 的突破。
