光刻膠是晶圓制造重要材料。光刻膠又稱光致抗蝕劑,是一種感光材料,在光的照射下發生溶解度的變化,可以通過曝光、顯影及刻蝕等一系列步驟將掩膜板上的圖形轉移到基片上。光刻膠是電子產品細微加工技術的關鍵性電子產品,被廣泛應用于半導體、液晶顯示(LCD)、印刷電路板(PCB)等領域。
光刻膠是由樹脂、添加劑、光引發劑和溶劑等組成的對光敏感的混合液體。從光刻膠成本占比來看,樹脂占比最大約 50%,其次是添加劑占比約 35%,剩余成本合計占比約 15%。從各成分作用來看,樹脂是惰性聚合物,是用于把光刻膠中的不同材料聚在一起的粘合劑,給予光刻膠機械和化學性質;添加劑(包括單體、助劑等)則控制和改變光刻材料的特定化學性質或光響應特性;光引發劑(包括感光劑、光致產酸劑等)是光刻膠材料中的光敏成分,發生光化學反應;溶劑使光刻膠具有流動性,易揮發,對于光刻膠的化學性質影響小。
光刻膠的性能指標包括分辨率、對比度、靈敏度、粘度、粘附性、抗蝕性和表面張力等。光刻膠是制造集成電路的關鍵材料,其性能直接影響到集成電路芯片上的集成度、運行速度及功耗等性能,因此要求光刻膠具有高分辨率、強粘附性,有良好的耐熱性、耐堿性、抗蝕性、工藝寬容度大等特性。